Seminārā iepazīstinās ar dažiem rezultātiem no ”Atomu un Negatīvo Jonu Radiācijas Procesu Pētījumiem ar Lāzeru Spektroskopijas Metodēm”: V un VI apakšgrupu pāreju varbūtību un dzīves laiku un refraktīvo elementu supersīkstruktūras konstanšu mērījumiem un detalizēti izklāstīs metodi izotopu nobīdes mērījumiem negatīvo jonu elektrona fotoatraušanas sliekšņa enerģijai starp hlora izotopiem.
Pastāstīs par savu pieredzi strādājot pie masku rakstīšanas mašīnu izstrādes un ražošanas priekš optiskās litogrāfijas. Detalizēt izstāstīs par mikrospoguļu matricu pielietojumu attēla projicēšanai uz fotoplates un interforometra pielietojumu fotorezistu pārbaudei priekš 193 nm lāzeru masku rakstītājiem.
Pēc tam prezentēs CFI iesniegto projektu LIAA: ”Mikromanipulatoru Klasteri”, un nobeigumā runās par dažām idejām lāzeru ablācijas pielietojumiem, kuras turpmāk vēlētos realizēt darbojoties Cietvielu Fizikas Institūtā.