Edgars Nitišs, Elza Liniņa, Andrejs Tokmakovs, Boris Poļakovs
Litogrāfija ir viena no svarīgākajām tehnoloģijām, ko mūsdienās izmanto elektronisko un fotonisko ierīču prototipēšanā un ražošanā. Ar litogrāfijas palīdzību iespējams veidot konkrētas struktūras ar ļoti augstu precizitāti. Atkarībā no nepieciešamās izšķirtspējas, kas var būt robežās no pāris nanometriem līdz pāris centimetriem, un ierīču izmēra, tiek pielietotas dažādas litogrāfijas tehnikas: elektronu staru litogrāfija (EBL), tiešā ieraksta lāzera litogrāfija (DWLL), optiskā masku litogrāfija (OML) u.c.
Šobrīd Latvijas Universitātes Cietvielu Fizikas institūtā ir ieviesta DWLL darba plūsma, kas paver iespējas realizēt dažādas ierīces prototipēšanai un pētniecībai fotonikā, nano/mikroelektronikā, mikrofluidikā, THz optikā u.c. DWLL metodē ar fokusētu lāzera staru tiek “ierakstītas” struktūras rezistā. Referāta laikā apskatotrealizētus piemēriem tiks skaidrotas LU CFI ieviesta DWLL plūsma, tehnikas iespējas un ierobežojumi.Iegūtie rezultāti tapuši ar VPP IMIS2 1. projekta "Fotonika un materiāli fotonikai" un Latvijas Universitātes Cietvielu fizikas institūta Studentu un Jauno zinātnieku projekta Nr. SJZ2015/15 atbalstu.