Kategorija
Materiālu sintēze un apstrāde; Tīrtelpas
Ražotājs un modelis
Raith - eLINE Plus
Raksturlielumi
- Mazākais elementu izmērs: <10 nmm
- Pamatnes izmērs: <100 mm
- Stara enerģijas apbgabals
- Beam energy range: 20 V to 30 kV
- Writing field size: 0.5 μm to 2 mm
- Field stitching: <40 mm
- Substrate holders:
- Universal sample holder - small pieces up to 2 inch wafer
- 2 inch wafer holder
- 3 inch wafer holder
- 4 inch mask holder
Pielietojumi un iespējas
Ultra augstas izšķirtspējas elektronu staru litogrāfijas sistēma paredzēta nanofabrikācijai uz pamatnēm, kas izmērā ir līdz 100 mm. Lāzera interferometrs nodrošina izšķirtspēju līdz pat 1nm. Sekundārais elektronu detektors dod iespēju uzņemt augstas izšķirtspējas attēlus. Sistēma ir aprīkota ar Load Lock un Traxx, un Periodixx iespējām.
Traxx - šī unikālā funkcija ļauj nepārtraukti kustināt pamatni lāzera iedarbības laikā. Ar šo funkciju var izveidot garas un patvaļīgas formas līknes, neradot sašūšanas kļūdas.
Periodixx - MBMS iedarbības režīms, kurā stara kustība ir definēta kā kombinācija no atkārtojošiem rakstiem un sinhronizētas lāzera interferometra nepārtrauktas kustības. Šādi iespējams izveidot līniju periodiskas struktūras, neradot sašūšanas kļūdas.