REZULTĀTI

Jauns produkts:

- Zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi, izmantojot impulsa HIPIMS magnetrona avotu jauno tehnoloģiju.
- Zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi, kas balstās uz daudzslāņu cinka oksīdu ZnO/Me/ZnO pārklājumu, arī dod ļoti daudzsološu alternatīvu ITO, lai iegūtu ļoti augstas kvalitātes zemu izmaksu TCO pārklājumus.
- Zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi, kas balstās uz molibdēna (MZO) un alumīnija (AZO) cinka oksīdu, dod ļoti daudzsološu alternatīvu ITO, lai iegūtu ļoti augstas kvalitātes zemu izmaksu TCO pārklājumus.
- Zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi, kas balstās uz gallija (Ga) cinka oksīdu (GaZO), arī dod ļoti daudzsološu alternatīvu ITO, lai iegūtu ļoti augstas kvalitātes zemu izmaksu TCO pārklājumus.

Jauna tehnoloģija: 

Lai atrisinātu problēmu ar impulsa HIPIMS magnetrona avotu izmantošanu vakuuma pārklājumu procesa materiālu izsmidzināšanai un substrāta attīrīšanai tiek plānots izpētīt iespējas un procesu, lai kontrolējot un optimizējot impulsa HIPIMS magnetrona avotu izsmidzināšanas procesu, mainot avota leņķi un citus procesa parametrus, noskaidrotu iespējamību izmantot impulsa HIPIMS magnetrona avotu vakuuma pārklājumu uznešanā.

Vienlaicīgi ir jāizpēta process un parametri izsmidzināmā materiāla efektīvākai un vienmērīgākai darbībai kustībā. Tiek plānots izpētīt planāro un rotācijas izsmidzināmo materiālu.

Projekta mērķis ir veikt dažādu materiālu jaunas izsmidzināšanas tehnoloģiju uz impulsa HIPIMS magnetrona avota bāzes darbības principu rūpniecisko izpēti, kuru varētu izmantot kā efektīvu un ekonomiski izdevīgu funkcionālo mezglu vakuuma pārklājumu iekārtās - gan ruļļu, gan nepārtrauktas darbības plākšņu tipa iekārtās.

Līdzīgu tehnoloģisko procesu pasaulē laboratorijas apstākļos veic vēl tikai trīs valstīs – ASV, Japānā un Vācijā. Pēdējā no minētajām šādas funkcionalitātes tehnoloģija jau tiek daļēji izmantota laboratorijas iekārtām, bet pārējās divās tiek veikti pētījumi. Katras valsts tehnoloģija „izmantot impulsa HIPIMS magnetrona avotu vakuuma pārklājumu uznešanā”, protams, ir atšķirīga (dažādu paņēmienu un patentu, licenču kopums), bet līdzīgi ir tikai šo tehnoloģiju izmantošanas rezultāti. Tāpēc ir ļoti svarīgi šo rūpniecisko pētījumu veikt tieši šobrīd, lai izmantotu pieredzi un iegūtu priekšrocības attiecībā pret saviem konkurentiem pasaules līmenī.

Cits intelektuālā īpašuma objekts:

Liela tehnoloģiska problēma ir atrast optimālus dopantus (piemaisījumus) kuri kombinē labu elektrisko vadāmību un caurspīdību. Mēs plānojam veikt liela mēroga teorētiskus aprēķinus no pirmajiem principiem priekš ZnO ar dažādiem piemaisījumiem (Al, Ga) izmantojot VASP plakano viļņu datorprogrammu un LU CFI paralēlo superdatoru LASC. Mēs pētīsim dažādu (piemēram, Al, Ga) piemaisījumu atomāro un elektronisko struktūru, izmantojot lielas paplašinātas elementārās šūnas un moderno paralēlo datoru modelēšanu. Īpašu uzmanību mēs pievērsīsim dažādu defektu konfigurāciju optimālajām telpiskajām struktūrām un stabilitātei, kā arī defektu klasterizācijai, O vakanču izveides procesam. Mēs analizēsim sakarību starp vadāmības-optiskajām īpašībām un defektiem pētāmajam materiālam.

Balstoties uz teorētiskiem rezultātiem, LU CFI laboratorijās tiks izstrādāta jauna optimāla TCO ražošanas tehnoloģija. Projekta ietvaros ir plānots pieteikt divus Eiropas Savienības patentus, iesniegt vairākas starptautiskas publikācijas.

Uzlabots esošais produkts:

- Zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi, kas balstās uz daudzslāņu cinka oksīdu ZnO/Me/ZnO pārklājumu, arī dod ļoti daudzsološu alternatīvu ITO, lai iegūtu ļoti augstas kvalitātes zemu izmaksu TCO pārklājumus.
- Zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi, kas balstās uz molibdēna (MZO) un alumīnija (AZO) cinka oksīdu, dod ļoti daudzsološu alternatīvu ITO, lai iegūtu ļoti augstas kvalitātes zemu izmaksu TCO pārklājumus.
- Zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi, kas balstās uz gallija (Ga) cinka oksīdu (GaZO), arī dod ļoti daudzsološu alternatīvu ITO, lai iegūtu ļoti augstas kvalitātes zemu izmaksu TCO pārklājumus.

Uzlabota esoša tehnoloģija:

Projekta ietvaros veiktā rūpnieciskā pētījuma rezultātā iespējami radītās tehnoloģijas – izmantot impulsa HIPIMS avotu vakuuma pārklājumu materiāla uznešanā un zemu izmaksu TCO plāno kārtiņu pārklājumi – ir pilnīgi jauna tehnoloģija ne tikai Latvijā, bet arī visās tuvākajās kaimiņvalstīs. Tā ir saistīta ar jau esošo LU CFI darbību un balstās uz iegūto pieredzi un kompetenci. Ir zināms, ka šobrīd tikai Vācijā tiek pielietota kaut nedaudz līdzīga tehnoloģija pilotiekārtu līmenī. Arī Latvijas augsto tehnoloģiju uzņēmumi ir ieinteresēti dažādu materiālu jaunas izsmidzināšanas ierīces uz impulsa HIPIMS avota bāzes iespējamo tehnoloģisko darbības principu rūpnieciskās izpētes veikšanā, kuru varētu izmantot kā efektīvu un ekonomiski izdevīgu funkcionālo mezglu vakuuma pārklājumu iekārtās; gan ruļļu, gan nepārtrauktas darbības plākšņu tipa iekārtās.

Uzlabots cits intelektuālā īpašuma objekts:

Paredzēts veikt piemaisījumu un papildus piemaisījumu atomāro un elektronisko struktūru pētīšanu, izmantojot lielas paplašinātas elementārās šūnas modeli un moderno paralēlo  datoru modelēšanu. Speciālu uzmanību pievērsīsim dažādu defektu konfigurāciju optimālajām telpiskajām struktūrām un stabilitātei, kā arī defektu klasterizācijai, skābekļa vakanču izveides procesam; analizēsim sakarību starp vadāmības, optiskajām īpašībām un defektiem pētāmajiem tehnoloģiski nozīmīgajiem materiāliem.